NMC612C应用于12英寸干法刻蚀工艺，深耕成熟Logic、CIS、BCD以及Power等领域，已在客户端稳定量产十年，有成熟BKM。主要应用为浅沟槽隔离刻蚀，栅极刻蚀、侧墙刻蚀等制程，具有丰富的工艺调试手段、较高的刻蚀均匀性以及量产稳定性。
