Hesper I E430R 12英寸单片减压硅外延系统
Hesper I E430R 12 Inch Single Wafer Reduced Pressure
Silicon Epitaxy System
Hesper I E430R 为单片四腔减压硅外延设备，主要用于12英寸薄膜硅外延工艺和填槽工艺。该产品拥有先进的控温控压系统，独特的流场设计，实现对温度的精准控制，整个外延工艺过程中温场和气流场均匀稳定，可获得优异的工艺指标。该设备智能化人机交互设计与高效的安全互锁保障了系统安全和稳定。
