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iTops A230Ⅱ

PVD AlN铝溅射系统

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iTops A230Ⅱ PVD AlN铝溅射系统

iTops A230Ⅱ PVD AlN Sputter System

iTops A230 Ⅱ主要用于2/4/6英寸AlN缓冲层沉积工艺。该机台为单工艺腔室设备，配备传输腔室和冷却腔室。AlN设备具有占地面积小，结构简单，操作灵活，维修方便，运营成本低等优势。

设备特点

产品应用

晶圆尺寸
2/4/6 英寸兼容
适用材料
氮化铝
适用工艺
氮化铝缓冲层溅射

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