Polaris 系列PVD金属薄膜物理气相沉积系统主要由真空传输平台，去气腔室，预清洁腔室和工艺腔室组成，设备采用Cluster Tool架构，可配置多个工艺腔室、预清洗腔室和去气腔室，适合封装领域薄膜制备大规模生产。Polaris 系列PVD为全自动大产能设备，具有wafer自动传输，工艺去气，晶片表面预清洁、薄膜沉积完全自动化等特点。