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ACE E300

12英寸等离子体高选择比刻蚀机

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ACE E300 12英寸等离子体高选择比刻蚀机

ACE E300 High Selectivity Etcher

ACE E300 利用超高精度的能量控制能力，专为12吋逻辑芯片制程在后摩尔时代的超高选择比，低离子体损伤，超高精度硅类，介质类，金属类刻蚀需求，以及3D结构中横向刻蚀的需求推出的革命性产品。

设备特点

产品应用

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