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ACE E300Ge

12英寸等离子体高选择比刻蚀机

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ACE E300Ge 12英寸等离子体高选择比刻蚀机

ACE E300Ge High Selectivity Etcher

ACE E300Ge拥有高密度低损伤的等离子源装置，以及超高过滤效率的离子过滤装置，为走向3D结构和更高深宽比的先进存储制程提供革命性的表面处理解决方案，以及高选择比、高精度的金属硬掩膜层刻蚀应用。

设备特点

产品应用

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