Esther/Eris 系列为单片常/减压式硅外延设备，适用于6/8英寸的硅外延工艺。Esther系列能够实现常压及减压条件下硅基材料的外延生长，并利用红外加热系统将工艺腔室承片基盘（石墨基座）温度稳定在特定温度范围内，配合高均匀度的气体流量控制，实现晶圆规格6/8英寸、硅基外延层生长的硅基材料化学气相外延及精确可调N型、P型掺杂。该设备智能化人机交互设计与高效的安全互锁保障了系统安全和稳定。