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等离子刻蚀设备 Etch
物理气相沉积设备 PVD
化学气相沉积设备 CVD
湿法设备 WET
立式炉管设备 Vertical Furnace
离子注入设备 Implant
快速热处理设备 RTP
外延设备 EPI

应用领域

集成电路 IC
先进封装 Advanced Packaging
化合物半导体 Compound Semiconductor
新兴应用与科研领域设备 Emerging Applications and R&D
客户服务 Services
备品备件 Parts

产品系列

石墨纯化设备 Graphite purification Furnace
化学气相沉积工艺设备 CVD/CVI Furnace
连续高温设备 Continuous high-temperature Furnace
烧结工艺设备 Sintering Furnace
先进热处理工艺设备 Heat Treatment Furnace
钎焊工艺设备 Brazing Furnace
物理气相沉积工艺设备 PVD Furnace
单晶炉设备 Single Crystal Growing Furnace
钕铁硼晶界扩散工艺设备 NdFeB grain boundary diffusion process equipment
锂离子电池极片制造设备 Li-ion Battery Electrode Manufacturing Equipment

应用领域

先进陶瓷 Advanced Ceramics
金属热处理 Metal heat treatment
碳材 Carbon material
真空电子元器件 Vacuum electronic components
复合集流体行业 Composite collector fluid Industry
氢能行业 Hydrogen Energy Industry
新能源光伏 Photovoltaic Industry
磁性材料行业 Magnetic materials Industry
锂电池极片电池制造 The Li-ion Battery Electrode Manufacturing

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电源模块 Power Supply Module
晶体器件 Crystal Device
精密电阻器 Precision Resistor
微波组件 Microwave Module
钽电容器 Tantalum Capacitor

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办公地址：北京市北京经济技术开发区文昌大道8号

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